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第120章 EUV（第2页）
同时为了保住在华国市场，他们还疯狂向华国出口duv光刻机。
综上分析，其实华国目前真正缺的，不是中低端的duv光刻机，而是7纳米以内高端制程的euv光刻机。
这不但体现在进口光刻机，国产光刻机同样如此。
目前魔都微电子已经可以量产，90n制程的duv光刻机了，
28n的duv浸没式光刻机，也已经有了工程样机，达到量产也已经是指日可待了。
而一旦彻底掌握了浸没式技术，再继续压缩制程，也就变成水到渠成了。
比如康驰手上这块14纳米制程的显卡，只要在28n的duv浸没式光刻机基础上，加个双工作台模式就能达到，
因此属于国内其它研发团队，可能很快就能突破的技术。
所以从必要性上看，也难怪康驰会考虑有没有解析它的必要。
而以如今的康驰的成就，就算造出了evu光刻机，想必大家虽然惊讶，但肯定不会觉得他是外来物种……
想到这里，康驰果断选择了给这张显卡升级！
通用经验-3196！
随着一道微光闪过，这张显卡的外形再次发生了变化。
【物品：硅晶图像处理器】
【制造者：康驰】
【物品等级：8】
【经验：09600】
【物品状态：完好】
【物品参数：9纳米制程工艺，主频16ghz，12gbddr6显存】
【解析项目：可解析】
【通用经验：60042】
【精通点：436】
9纳米？
这個制程就有点暧昧了啊……
属于euv和duv都能造的制程。
不过最低7n，毕竟只是浸没式duv光刻机的理论最小工艺节点，也就是技术压榨到极致才能做到的。
以系统的逼格之高，应该不至于这么小气，把一项技术压榨到这么极限给自己吧？
所以这个9纳米制程，大概率还是euv光刻机造的。
康驰打开解析面板，看到上面写着‘9纳米光刻机制造工艺’需要消耗40点精通点，比之前多出10点也进一步佐证了康驰的猜测。
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